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金春水 研究员

2016/10/24 14:13:21   来源:本站   作者:管理员   人气:1088次

极紫外光刻光学技术学术带头人,男,196410月生,博士,研究员,博士生导师。国家科技重大专项02专项总体专家组专家。主要从事极紫外光刻光学技术领域研究工作,负责主持开展了面向国家战略发展需求的极紫外光刻关键技术研究,攻克了超高精度非球面加工与检测、极紫外多层膜、超高精度光学系统集成等极紫外光刻技术发展中亟待解决的关键问题,初步建成适应于极紫外光刻曝光光学系统研制的技术平台。研制出了国内第一套EUV光刻原理试验曝光装置,首次获得EUV光刻32nm线宽光刻胶曝光图形。围绕短波光学薄膜元件应用开展了光学薄膜的设计、制备方法与工艺优化、薄膜性能综合表征等技术研究,构建起了完备的短波光学薄膜制备工艺与检测平台,带通滤光片及深紫外薄膜元件相关性能技术指标同比达到了国际领先的水平。发表学术论文60余篇,获授权发明专利22项;培养博士研究生13名,硕士研究生8名。





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