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极紫外多层膜膜厚分布超高精度控制研究获进展

2015/12/15 14:54:18   来源:本站   作者:管理员   人气:693次

      近日,中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室金春水研究团队在极紫外多层膜膜厚分布超高精度控制研究方面取得新进展:通过采用遗传算法,实现了Φ200mm曲面基底上极紫外多层膜膜厚分布控制精度优于±0.1%,镀膜引起的不可补偿面形误差小于0.1nmRMS,相关指标达到国际先进水平。相关结果在线发表于近期的Optics Lettersdx.doi.org/10.1364/OL.40.003958)上。 

      极紫外多层膜反射镜是极紫外光刻系统的核心光学元件。极紫外光刻系统需要高性能的极紫外多层膜,包括高反射率,低应力,高稳定性和高均匀性。对于极紫外光刻系统中的投影物镜,必须对镀制在其上的极紫外多层膜进行超高精度的膜厚分布控制,以便实现波长匹配和减小镀膜引起的面形误差。 

      该研究团队采用遗传算法,完成了磁控溅射溅射源特性参数的反演和用于控制膜厚分布的公转调速曲线的反演,避免了直接测量磁控溅射速率空间分布的繁琐过程,减少了极紫外多层膜膜厚控制工艺的迭代次数,大大降低了获得超高膜厚分布精度极紫外多层膜反射镜的工艺成本。 

      该工作得到了“国家科技重大专项-02专项”项目经费的支持。






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