设备名称：多功能电感耦合等离子刻蚀机
 
型    号： 601E
 
生产厂家： 法国Alcatel公司
 
购入日期：2002年
 
主要指标： 
         刻蚀速率：2μm/min—10μm/min；
         陡直度：90°±1°
         选择比：Si : SiO2   250 : 1 
                 Si : PR    150 : 1
         侧蚀量：≥0.5μm
         侧表面粗糙度：≥40nm
 
主要功能：  
         刻蚀 3寸、4寸Si、SiO2、Si3N4衬底     
 
应用领域：  
         微电子及MEMS研究